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主要負責光學臨近修正（OPC）技術的研發(fā)和應用，專注于優(yōu)化光刻工藝，確保設計圖形在制造中精確轉(zhuǎn)移：
核心職責包括：
?1、模型開發(fā)與驗證?：建立光刻過程的物理模型，分析光學衍射效應，校正設計圖形與實際制造結果之間的偏差；同時設計測試圖形，收集SEM數(shù)據(jù)驗證模型準確性，確保模型可靠性和穩(wěn)定性
2、?工藝優(yōu)化與問題解決?：針對量產(chǎn)中的缺陷問題，優(yōu)化OPC菜單和掩膜配方，解決弱點和缺陷；包括設計測試掩膜、分析晶圓數(shù)據(jù)，并與光刻、刻蝕等團隊協(xié)作，提供技術方案以提升制造流程效率和質(zhì)量。
3、流程建立與標準化?：參與OPC標準流程的制定、改進和轉(zhuǎn)移，例如協(xié)助研發(fā)部門到光罩廠的技術轉(zhuǎn)讓，確保OPC數(shù)據(jù)按期高質(zhì)量交付，并優(yōu)化生產(chǎn)周期以減少延遲。
4、自動化與技術支持?：編寫Python或Perl等腳本實現(xiàn)工作流程自動化，提升效率和準確性；為客戶提供軟件使用培訓、現(xiàn)場技術支持，并作為客戶與內(nèi)部開發(fā)團隊的溝通橋梁，解決工藝研發(fā)中的挑戰(zhàn)。
5、跨團隊協(xié)作與創(chuàng)新?：與上下游部門緊密配合，監(jiān)控測試進度和模型質(zhì)量；同時追蹤行業(yè)前沿技術，參與OPC軟件產(chǎn)品的定義和優(yōu)化，推動新方法開發(fā)以應對先進工藝需求